1月24日消息，国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种利用等离子体刻蚀设备的处理工艺”的专利。申请公布号为CN121398177A，申请号为CN202410966229.4，申请公布日期为2026年1月23日，申请日期为2024年7月18日，发明人黄秋平、董磊，专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司，专利代理师贾慧琴、包姝晴，分类号H10F39/18、H10F39/00、H10P50/28、B81C1/00。
专利摘要显示，本发明公开了一种利用等离子体刻蚀设备的处理工艺，包含：将表面沉积了绝缘层的基片放置于等离子体刻蚀设备的反应腔内；通入刻蚀气体，在基片上表面形成凹陷结构；沉积步骤中包括多个工艺循环，每个循环包括交替进行的第一工艺步骤和第二工艺步骤，第一工艺步骤中通入的气体包括含硅气体，第二工艺步骤中通入的气体包括含氧或含氮气体中的任意一种；在第二工艺步骤中，含硅气体和含氧/含氮气体混合形成的沉积气体解离形成的等离子体在基片的凹陷结构内壁上沉积保护薄膜。本发明沉积的保护薄膜质量佳，节约了时间成本和生产成本。
天眼查数据显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司成立日期2004年5月31日，法定代表人尹志尧，所属行业为专用设备制造业，企业规模为大型，注册资本62614.5307万人民币，实缴资本62236.3735万人民币，注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号。中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了30家企业，参与招投标项目75次，财产线索方面有商标信息108条，专利信息1634条，拥有行政许可77个。
中微半导体设备（上海）股份有限公司近期专利情况如下：
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种工艺顶盖及气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202521979639.9 | 2025-09-15 | CN223458392U | 2025-10-21 | 刘从灵、谢振南、郑振宇、柴浩瑞、姜勇、郭世平 |
| 2 | 反应腔、高深宽比结构及其形成方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510550377.2 | 2025-04-28 | CN120072612B | 2025-07-25 | 尹志尧、徐伟娜、张一川、张凯、丛海、刘志强 |
| 3 | 基片托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202530230568.1 | 2025-04-25 | CN309730273S | 2026-01-09 | 陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开 |
| 4 | 基片托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202530230569.6 | 2025-04-25 | CN309730274S | 2026-01-09 | 陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开 |
| 5 | 一种气相沉积设备及半导体处理系统 | 发明专利 | 公布 | CN202510444720.5 | 2025-04-09 | CN120830094A | 2025-10-24 | 尹志尧、倪图强、丛海、请求不公布姓名、杨宽、张海龙、朱荣帅 |
| 6 | 一种环组件及成膜装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520251908.3 | 2025-02-17 | CN223780392U | 2026-01-09 | 郭世平、姜勇、郑振宇、丁伟 |
| 7 | 一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510165658.6 | 2025-02-14 | CN119673741B | 2025-05-30 | 叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟 |
| 8 | 一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510165658.6 | 2025-02-14 | CN119673741B | 2025-05-30 | 叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟 |
| 9 | 一种半导体加工设备及其控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510147729.X | 2025-02-10 | CN119601451B | 2025-05-09 | 李博睿、卢明、倪图强 |
| 10 | 一种阻抗匹配器、射频组件与等离子体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202520210442.2 | 2025-02-10 | CN222637222U | 2025-03-18 | 卢明、李博睿、倪图强 |
| 11 | 一种半导体加工设备及其控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510147729.X | 2025-02-10 | CN119601451B | 2025-05-09 | 李博睿、卢明、倪图强 |
| 12 | 一种化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520172387.2 | 2025-01-24 | CN223780352U | 2026-01-09 | 杜冰洁、路今、姜银鑫 |
| 13 | 一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510098695.X | 2025-01-21 | CN119517722B | 2025-05-13 | 田宁、叶如彬 |
| 14 | 一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510098695.X | 2025-01-21 | CN119517722B | 2025-05-13 | 田宁、叶如彬 |
| 15 | 一种隔离结构及化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520123428.9 | 2025-01-17 | CN223780362U | 2026-01-09 | 黄稳、李勇志、姜勇、陆顺开 |
| 16 | 一种化学气相沉积装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202510073813.1 | 2025-01-16 | CN119932527A | 2025-05-06 | 张辉、姜银鑫、姜勇 |
| 17 | 缓冲装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520107111.6 | 2025-01-16 | CN223780359U | 2026-01-09 | 杨闰清、徐灿阳、陈冬、许灿、何伟业 |
| 18 | 一种化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520086318.X | 2025-01-14 | CN223780351U | 2026-01-09 | 陆顺开、周子琛、张辉 |
| 19 | 一种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411976013.2 | 2024-12-31 | CN119374033A | 2025-01-28 | 徐志鹏、倪图强、连增迪 |
| 20 | 化学气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202423319091.3 | 2024-12-31 | CN223780363U | 2026-01-09 | 朱泉松、庄宇峰、吕术亮、李远 |
| 21 | 一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411969617.4 | 2024-12-30 | CN119382671B | 2025-09-12 | 徐志鹏、常健、王亚军 |
| 22 | 一种用于气柜可燃性测试的系统及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411980652.6 | 2024-12-30 | CN119375415A | 2025-01-28 | 王治平、宋飘、宋常征、权汉钊 |
| 23 | 一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411969617.4 | 2024-12-30 | CN119382671B | 2025-09-12 | 徐志鹏、常健、王亚军 |
| 24 | 一种半导体工艺平台 | 实用新型 | 授权 | CN202423296470.5 | 2024-12-30 | CN223660196U | 2025-12-12 | 陶珩、何伟业、许灿、王能语、杨闰清、吴红星、廖腊财、桑成松、刘学滨、陈冬、刘青、刘雯伊 |
| 25 | 一种半导体处理设备及其固态前驱体输送系统和输送方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、实质审查的生效、公布 | CN202411947571.6 | 2024-12-26 | CN119372628B | 2025-03-18 | 庄宇峰、朱泉松、李远、孙家鑫 |
| 26 | 一种用于半导体处理设备的气体输送装置和气体通路模块 | 实用新型 | 授权 | CN202423230256.X | 2024-12-25 | CN223524974U | 2025-11-07 | 姜学斌、彭建录、梁冬冬、周楚秦、张嘉赫 |
| 27 | 晶圆托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202430820667.0 | 2024-12-24 | CN309541504S | 2025-10-14 | 汪国元、代宇通、姜勇 |
| 28 | 晶圆托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202430817296.0 | 2024-12-23 | CN309541503S | 2025-10-14 | 汪国元、代宇通、姜勇 |
| 29 | 一种沉积金属氮化物的方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411897577.7 | 2024-12-20 | CN120193249A | 2025-06-24 | 沈成绪、许灿、高烨、陈宇畅、刘鹏杰、杨闰清 |
| 30 | 气体喷淋头、喷淋头组件以及化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202423152151.7 | 2024-12-19 | CN223780356U | 2026-01-09 | 陈佳波、徐立、吴红星、吕术亮、李雪子 |
| 31 | 等离子体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202423135658.1 | 2024-12-18 | CN223665407U | 2025-12-12 | 王许、朱永成、李琳、王智昊 |
| 32 | 机械臂及半导体设备零件的洁净度原位检测系统 | 实用新型 | 授权 | CN202423135638.4 | 2024-12-18 | CN223657031U | 2025-12-12 | 孙祥、刘若晨 |
| 33 | 一种半导体处理设备及其多区加热板和多区温控驱动方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411825844.X | 2024-12-11 | CN119835809A | 2025-04-15 | 张辉、姜银鑫、杜冰洁 |
| 34 | 一种气路加热模组 | 实用新型 | 授权 | CN202422993593.8 | 2024-12-04 | CN223528230U | 2025-11-07 | 毛绪光、吴红星、李远 |
| 35 | 一种真空平台 | 实用新型 | 授权 | CN202422993652.1 | 2024-12-04 | CN223535207U | 2025-11-11 | 刘雯伊、王能语、刘学滨 |
| 36 | 锁扣组件和反应腔 | 实用新型 | 授权 | CN202422980570.3 | 2024-12-03 | CN223535206U | 2025-11-11 | 黄稳、姜勇 |
| 37 | 流量校准仪 | 外观专利 | 授权 | CN202430745159.0 | 2024-11-25 | CN309427817S | 2025-08-08 | 段国安、连增迪、钟水苗、徐扬、倪图强 |
| 38 | 等离子体处理装置 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411668534.1 | 2024-11-20 | CN119170474B | 2025-02-14 | 张一川、田宁、叶如彬 |
| 39 | 下电极组件及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411660380.1 | 2024-11-19 | CN119170554B | 2025-07-08 | 田宁、叶如彬 |
| 40 | 下电极组件及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411660380.1 | 2024-11-19 | CN119170554B | 2025-07-08 | 田宁、叶如彬 |
| 41 | 半导体处理设备及其直流电压信号控制系统 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411629639.6 | 2024-11-14 | CN119182310B | 2025-09-16 | 倪图强、卢明、李博睿 |
| 42 | 半导体处理设备及其直流电压信号控制系统 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411629639.6 | 2024-11-14 | CN119182310B | 2025-09-16 | 倪图强、卢明、李博睿 |
| 43 | 一种集成式匹配器系统及半导体处理装置 | 实用新型 | 授权 | CN202422709197.8 | 2024-11-06 | CN223527122U | 2025-11-07 | 范宏宇、李宝琛 |
| 44 | 防止下电极组件发生电弧放电的方法及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411561997.8 | 2024-11-04 | CN119069332B | 2025-03-04 | 田宁、叶如彬、刘志强 |
| 45 | 气体分配盒及气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422687373.2 | 2024-11-04 | CN223433539U | 2025-10-14 | 张海龙、胡玲钢、莱纳德·刘、王璐瑛 |
| 46 | 一种清洁半导体零部件的装置及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411474501.3 | 2024-10-21 | CN119426243A | 2025-02-14 | 梁重时、丛海、朱俊麒 |
| 47 | 一种紧固结构、上接地环组件及等离子体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422473121.X | 2024-10-12 | CN223203405U | 2025-08-08 | 涂传文、苏宜龙、吴标胜 |
| 48 | 一种磁力组件及磁控溅射设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422453102.0 | 2024-10-10 | CN223316769U | 2025-09-09 | 张旭彤、吴狄、连增迪、李兆晟 |
| 49 | 一种气体传输系统及半导体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422453455.0 | 2024-10-10 | CN223318903U | 2025-09-09 | 王恒阳、连增迪 |
| 50 | 一种气体验证装置及半导体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422446632.2 | 2024-10-09 | CN223204990U | 2025-08-08 | 段国安、连增迪、倪图强、徐扬、钟水苗 |
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