而同期荷兰ASML狂销160台,其中高端EUV光刻机占20余台,技术代差极其显著。
市场份额方面,尼康曾在2001年占据全球光刻机市场约40%份额,如今按金额计算已跌至个位数,沦为全球第三,被ASML与佳能远远甩开。
深层原因在于技术路线的连环失误,尼康早年错失浸没式光刻技术先机,又在EUV研发中坚持"全自研"策略,被排除在ASML主导的EUV联盟之外,核心光源技术遭切断。
超千亿日元的EUV投入最终仅换来无法商用的原型机,商业化开发被迫终止,彻底错失技术迭代窗口。
此外,尼康过度依赖单一客户Intel,随着Intel削减资本开支,尼康订单随即暴跌,加之未能及时开拓台积电与三星市场,订单缺口无从填补。
在外部政策层面,随着日本紧跟美国加码半导体出口管制,尼康设备的交付与成本压力激增,中国客户的流失更使其生存空间被进一步挤压。